主要从事物理气相沉积生长薄膜过程中等离子调控与薄膜物理性能之间关联机制的研究，团队有3台磁控溅射(包括RF/DC/HiPIMS电源)、1台热蒸发、1台多弧离子镀、1台脉冲激光沉积等薄膜生长设备，以及相应的薄膜分析测试设备。